Halbzellenpotentialmessungen sind ein gängiges Verfahren zur Schätzung der Korrosionsrate von Metallstrukturen. Bei diesem Verfahren wird die elektrische Potentialdifferenz zwischen einer Metalloberfläche und einer Referenzelektrode gemessen. Die gewonnenen Daten können dazu beitragen, die Wahrscheinlichkeit und Schwere der Korrosion in verschiedenen Umgebungen zu beurteilen.

Prinzip der Halbzellenpotentialmessung

Das Verfahren basiert auf elektrochemischen Prinzipien. Wenn ein Metall einem Elektrolyten ausgesetzt wird, entwickelt es ein Potential gegenüber einer Referenzelektrode, das als Korrosionspotential oder Halbzellenpotential bekannt ist und die Korrosionsneigung des Metalls anzeigt. Negativere Potentiale deuten typischerweise auf eine höhere Korrosionsaktivität hin.

Messverfahren

Zur Durchführung von Messungen wird eine Referenzelektrode, wie Kupfer/Kupfersulfat oder Silber/Silberchlorid-Elektrode, in Kontakt mit der Umgebung nahe der Metalloberfläche gebracht. Ein Voltmeter erfasst die Potentialdifferenz zwischen der Referenzelektrode und dem Metall. Mehrere Messwerte in verschiedenen Bereichen ergeben ein umfassendes Korrosionsprofil.

Abschätzung der Korrosionsrate

Das gemessene Potential kann mit Korrosionsraten unter Verwendung empirischer Diagramme oder Modelle korreliert werden. Im Allgemeinen weisen negativere Potentiale als -350 mV gegenüber einer Kupfer-Kupfersulfat-Elektrode auf aktive Korrosion hin. Im Gegensatz dazu deuten Potentiale über -200 mV auf passive oder nicht korrosive Bedingungen hin.

  • Messung des Korrosionspotenzials
  • Referenzelektrodenanordnung
  • Mehrfache Standortprüfung
  • Dateninterpretation mit empirischen Modellen