Wie man den Widerstand von Halbleiterschichten in Dünnschichtvorrichtungen bestimmt

Die Messung des Widerstands von Halbleiterschichten in Dünnschichtbauelementen ist für das Verständnis ihrer elektrischen Eigenschaften und Leistung unerlässlich.

Verfahren zur Widerstandsmessung

Zur Messung des Widerstands von Halbleiterschichten werden verschiedene Verfahren verwendet, wobei die gebräuchlichsten Verfahren die Vierpunktsondenmethode und die Zweipunkt-Messtechnik sind, wobei die Vierpunktsonde die Auswirkungen des Kontaktwiderstands reduziert und genauere Ergebnisse liefert.

Vier-Punkt-Sonden-Methode

Bei diesem Verfahren werden vier gleichmäßig beabstandete Sonden auf der Halbleiteroberfläche angebracht, wobei ein Strom durch die äußeren Sonden geleitet wird und die Spannung über die inneren Sonden gemessen wird. Der Widerstand wird unter Berücksichtigung der Sondengeometrie unter Verwendung der gemessenen Spannung und des gemessenen Stroms berechnet.

Berechnung des Widerstands

Der Widerstand (R) kann mit dem Ohmschen Gesetz berechnet werden: R = V / I, wobei V die am Gerät gemessene Spannung und I der angelegte Strom ist. Für dünne Filme wird oft der Flächenwiderstand (Rs) verwendet, der sich auf den Widerstand über die Geometrie des Films bezieht.

Faktoren, die die Widerstandsmessung beeinflussen