Controle van onzuiverheid niveaus is essentieel in halfgeleider fabricage om de prestaties van het apparaat en betrouwbaarheid te garanderen. Nauwkeurig beheer van onzuiverheden beïnvloedt elektrische eigenschappen en de algemene apparaatkwaliteit. Verschillende methoden worden gebruikt om onzuiverheden te minimaliseren en te controleren tijdens productieprocessen.

Zuiverheid van grondstoffen

Het gebruik van grondstoffen met een hoge zuiverheid is de eerste stap in de beheersing van onzuiverheid. Leveranciers leveren materialen met een bepaalde onzuiverheid en kwaliteitscontroles worden uitgevoerd voor gebruik. Dit vermindert de initiële verontreiniging die de daaropvolgende verwerkingsprocessen kan beïnvloeden.

Omgevingen in de cleanroom

De productie vindt plaats in cleanroomomgevingen om luchtdeeltjes en verontreinigingen te beperken. Luchtfiltratiesystemen, zoals HEPA-filters, verwijderen onzuiverheden uit de lucht, waarbij een gecontroleerde omgeving wordt gehandhaafd die de risico's van verontreiniging minimaliseert.

Procescontroletechnieken

Geavanceerde procescontrolemethoden worden gebruikt om fabricageparameters te monitoren en aan te passen. Technieken zoals chemische dampdepositie (CVD) en atomaire laagdepositie (ALD) zijn geoptimaliseerd om onzuiverheid te verminderen. Bovendien helpt in-situ monitoring om eerder besmetting te detecteren.

Zuivering na verwerking

Nabewerkingsstappen, zoals het gloeien en chemisch reinigen, verwijderen restverontreinigingen. Deze processen helpen de zuiverheid van het halfgeleidermateriaal te verbeteren en ervoor te zorgen dat onzuiverheidsniveaus binnen aanvaardbare grenzen blijven.