Фотонічні кристальні конструкції є матеріалами з періодичними варіаціями в рефракційному індексі, які можуть контролювати потік світла. Пофарбовування цих конструкцій вимагає точних методів, і їх характеризація є важливим для забезпечення належної функціональності. Цей посібник забезпечує огляд практичних методів створення і аналізу фотонних кристалів.

Техніка виготовлення

Кілька методів використовуються для виготовлення фотонічних кристалів, кожен підходить для різних додатків і масштабів. Загальні методи включають літографію, офорт і самозбираючі.

Електрон Баам Літографія

Цей метод пропонує високу точність для створення нанорозмірних візерунків. Він передбачає використання фокусованої електрон пучка для написання шаблонів на резитовий субстрат, слідуючи за допомогою офорту для передачі шаблону.

Фотолітографія та реактивна зйомка

Фотолітографія використовує УФ-світло для шаблону фоторезистентних шарів, які потім розроблені і очищаються, щоб сформувати бажані структури. Заборонений іонний офорт (RIE) забезпечує аізотропний офорт для високоефективних властивостей співвідношення сторін.

Методика визначення

Оцінка якості фотонних кристалічних конструкцій передбачає оптичні та структурні методи характеризації. Дані методи перевіряють періодичність, рівні дефектів та оптичні властивості.

Скакування електронної мікроскопії (SEM)

СЕМ забезпечує докладні зображення морфології поверхні, що дозволяє вимірювати розміри і виявлення дефектів тканин.

Оптичний спектроскопія

Оптичні спектроскопії вимірює спектри передачі та відображення для виявлення зазорів фотонії та перевірки оптичної поведінки фотонічного кристала.

Редагування

Ефективна виготовлення та характеристика фотонних кристалічних конструкцій передбачає точне та ретельний аналіз. Поєднання сучасних методів ліфографії з оптичною та електронною мікроскопією забезпечує якісну структуру, придатну для різних додатків.