Проектування напівпровідників для високотемпературних додатків: вибір матеріалів та розрахунок
Table of Contents
Високотемпературні застосунки вимагають спеціалізованих напівпровідників матеріалів, які можуть працювати надійно при екстремальних умовах теплової дії. Вибір відповідних матеріалів і виконання точних розрахунків є важливими кроками проектування цих напівпровідників для забезпечення продуктивності і довговічності.
Вибір матеріалу для напівпровідників високої температури
Матеріали, що використовуються в високотемпературних напівпровідниках, повинні мати широкі смуги проміжки, високу термостійкість і хороші електричні властивості при підвищених температурах. Загальні вибірки включають кремнію карбід (SiC), нітриду гліію (GaN), а також алмаз. Ці матеріали можуть витримати вищі температури порівняно з традиційними напівпровідниками кремнію.
Основні властивості матеріалу
- Band Gap: Широкі розриви смуги зменшують теплове покоління зарядних носіїв.
- Thermal Диригент: Висока теплопровідність допомагає ефективно дисіпалювати тепло.
- Breakdown Напруга: Вищені напруги дозволяють працювати на більш високих напругах.
- Thermal Stability: Стійкість до деградації при високих температурах.
Розрахунок продуктивності високої температури
Проектування напівпровідників передбачає розрахунок параметрів, таких як концентрація внутрішньоінстистичного носія, мобільність, а також відбиття напруги при підвищених температурах. Ці розрахунки допомагають прогнозувати поведінку приладу і забезпечити надійність в умовах оперативної роботи.
Концентрація внутрішньовенного носія
Внутрішньої концентрації носіїв підвищується при температурі, що впливає на провідність. Вона може бути оцінена за допомогою рівняння:
n] = A × T / 2 × e]g / 2kT ]]]]]g[] /
Розрахунок напруги відбиття
Напруга відбиття залежить від властивостей матеріалів і геометрії пристрою. Вона може бути приблизно:
BD] × d]