অতি দ্রুত, কার্যকর, কার্যকর এবং খুব কম পরিমাণে প্রয়োগ পদ্ধতি প্রয়োগ করার মাধ্যমে, প্রচুর পরিমাণে পরিমাণে পরিমাণে পরিমাণে রাসায়নিক পদার্থের ক্ষেত্রকে বিপ্লবে পরিণত হয়েছে ।

সম্প্রতি টেকনোলোজিকাল উন্নতি

লেজার উৎস প্রযুক্তিতে উন্নতির ফলে উচ্চ পালস শক্তি এবং পুনরাবৃত্তি হার বৃদ্ধি পেয়েছে। নতুন পালসের গতি ও গুণগত মান উন্নত করা যায়। নতুন পালসের ব্যবহার পদ্ধতি লেজারের গতিকে নিয়ন্ত্রণ করার ক্ষেত্রে উন্নত করার মাধ্যমে এটি কার্যকর হবে। এছাড়াও, এটি আবহাওয়ার গতি হ্রাস করে এবং ক্রমবর্ধনশীলতার মাত্রা কমিয়ে আনতে সক্ষম।

নতুন অ্যাপ্লিকেশন

বিভিন্ন ক্ষেত্রে নতুন নতুন সম্ভাবনার সূচনা হয়েছে:

  • [[F] Miceclical]:[FLT][FLT] spatorkinging [1] উচ্চ পর্যায়ের clubing এবং spersing Warkingings]
  • [[FLT] অ্যাক্ট্রিকাল ডিভাইস:[[FFLT] পদার্থের মান পরিবর্তন করা হয়েছে এবং পুনরায় নতুন যন্ত্রপাতি ও পুন:নির্মান করা হয়েছে ।
  • [[F] [FLT]] ইঙ্গিত:[FLT] হালকা এবং জটিল অংশ]
  • [[FLT] নতুন শক্তি:[[FLT] এর জন্য সৌর কোষের বিন্যাস] উন্নত মানের বিন্যাস

ভবিষ্যৎের গতিপথ

ভবিষ্যতের গবেষণা আরো বেশী পরিমাণে লেজারের সূত্র উন্নয়নের লক্ষ্য হচ্ছে, যার মধ্যে রয়েছে টুনেন্টের সংখ্যা এবং উচ্চ হার এবং উচ্চ হারের হার।

অন্তর্ভুক্ত

অতি দ্রুতগতিসম্পন্ন লেজার পদ্ধতিগুলোতে ব্যবহৃত বিষয়বস্তুর সীমা বৃদ্ধি, অভূতপূর্ব স্পষ্ট ও দক্ষতা প্রদান এবং দক্ষতাকে বাড়িয়ে তোলে ।