ساختارهای کریستالی Photonic مواد با تغییرات دوره ای در شاخص های انکساری هستند که می توانند جریان نور را کنترل کنند.ساخت این ساختارها نیازمند تکنیک های دقیق است و شخصیت آنها برای اطمینان از عملکرد مناسب ضروری است.این راهنما یک مرور کلی از روش های عملی برای ایجاد و تجزیه و تحلیل کریستال های فوتونیک را فراهم می کند.

تکنیک های پارچه سازی

چندین روش برای ساخت ساختارهای کریستالی فوتونیک استفاده می شود که هر کدام برای کاربردهای مختلف و مقیاس های رایج مناسب هستند، تکنیک های رایج شامل لیموگرافی، و خارش و خود جمع آوری است.

الکتروان بی دی

این روش دقت بالایی برای ایجاد الگوهای نانومقیاس ارائه می دهد، شامل استفاده از یک پرتو الکترون متمرکز برای نوشتن الگوهای بر روی یک بستر با پوشش مقاومت، و سپس با استفاده از ووچینگ برای انتقال الگو است.

Photolithography و Reactive یونی

Photolithography از نور UV برای لایه های عکسیست الگو استفاده می کند که سپس توسعه یافته و غیره برای شکل دادن به ساختارهای مورد نظر است. Reactive یون etching (RIE) aisrick etching را برای ویژگی های نسبت به ابعاد بالا فراهم می کند.

روش های شخصیتی سازی

ارزیابی کیفیت ساختارهای کریستالی فوتونیک شامل تکنیک های نوری و ساختاری است.این روش ها دوره ای، سطوح نقص و خواص نوری را تأیید می کنند.

میکروسکوپ الکترونی (SEM)

SEM تصاویر دقیقی از مورفولوژی سطح را فراهم می کند که اجازه می دهد اندازه گیری اندازه های ویژگی و تشخیص نقص های ساخت را فراهم کند.

Spectrوسکوپی نوری

طیفوسکوپی نوری طیف انتقال و انعکاس طیف را برای شناسایی شکاف های باند فوتونیک و تأیید رفتار نوری کریستالی فوتونیک اندازه گیری می کند.

خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه خلاصه

ساخت و ساز موثر و مشخصات ساختارهای کریستالی فوتونیک شامل تکنیک های دقیق و تجزیه و تحلیل کامل است. ترکیب روش های پیشرفته لیتوگرافی با میکروسکوپ نوری و الکترونی تضمین ساختارهای با کیفیت بالا مناسب برای کاربردهای مختلف.