ハーフセルの潜在的な測定は、金属構造の腐食率を推定するために使用される一般的な方法です。この技術は、金属表面と参照電極間の電気的潜在的な差を測定することを含みます。得られたデータは、さまざまな環境における腐食の可能性と重度の評価を助けることができます。

ハーフセルの潜在的な測定原理

方法は電気化学的原理に基づいています。金属が電解質にさらされると、それは参照電極に相対的な潜在的な発展します。この潜在的な腐食の可能性または半細胞の潜在的なとして知られるこの可能性は、金属が腐食する傾向を示します。より負の潜在性は、通常より高い腐食活性を示唆しています。

測定の手順

測定を行うには、銅/銅硫酸塩や銀/銀/銀/銀/銀/塩化物電極などの参照電極が金属表面に近い環境に接触する。 電圧計は、参照電極と金属の間の潜在的な違いを記録します。 異なる領域にわたって複数の読書は、包括的な腐食プロファイルを提供します。

腐食率の推定

測定された潜在能力は、空チャートまたはモデルを使用して腐食率と相関することができます。一般的に、銅/銅硫酸塩電極よりもマイナスが最大である可能性は、活性腐食を示しています。逆に、-200 mV上の潜在性は受動または非腐食性条件を示唆しています。

  • 腐食潜在的な測定
  • 参照の電極の配置
  • 複数のサイトテスト
  • 帝国モデルを用いたデータ解釈