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구조 금속의 부식은 중요한 안전과 경제 문제점에 지도할 수 있습니다. 전기화학 방법은 정비와 예방 전략에서 돕는 부식 비율을 측정하는 정확한 방법을 제공합니다. 이 문서는 이 방법을 사용하여 계산 부식 비율의 기본적인 과정을 설명합니다.
Electrochemical 부식 측정
전기화학 기술은 금속 표면과 참고 전극 사이 전류 또는 잠재적 차이를 측정합니다. 이 측정은 특정 환경에 금속의 부식 비율을 결정하는 데 사용됩니다.
부식 비율을 계산하는 단계
이 과정은 몇 단계가 포함되어 있습니다.
- 금속 샘플을 준비하고 전기 화학 셀을 설정합니다.
- 참고 전극을 연결하고 개방 회로 잠재력을 측정합니다 (OCP).
- 현재 밀도 데이터를 얻기 위해 편광 테스트를 수행합니다.
- 부식 현재 조밀도 (I]corr)를 산출하는 자료를 사용하십시오.
- 부식 전류를 표준 공식을 사용하여 부식 비율로 변환합니다.
부식 비율을 계산
부식 비율 (CR)는 공식으로 산출될 수 있습니다:
CR = (K × Icorr]) / (ρ × n)[]]
위치:
- K = 일정한 (예 : μA / cm]2]에서 부식 전류를 위해 3272 mm / 년)
- Icorr= 부식 전류 밀도 (μA/cm2)
- ρ = 금속의 밀도 (g / cm[[FLT :0]]3[[FLT :1]])
- n = 부식 반응에 관련된 electrons의 수
이 공식을 적용함으로써, 엔지니어는 년 당 밀리미터에 금속의 부식율을 추정할 수 있으며, 유지보수 계획 및 재료 선택에 대한 인도.