MRI의 자기 감염 효과는 다른 조직 유형과 재료의 영향을 로컬 자기 분야에서 참조합니다. 이 효과는 MRI 스캔의 정확도에 영향을 미치는 이미지 artifacts 및 왜곡을 일으킬 수 있습니다. 이러한 효과에 대한 계산 및 계정이 이미지 품질과 진단 신뢰성을 개선하는 데 필수적입니다.

자기의 적합성

자기 감염은 외부 자기장에 노출 될 때 얼마나 많은 재료가 자석화되는 측정이다. MRI에서 다른 susceptibilities와 조직은 로컬 자기장 변이를 만듭니다. 이 변이는 조직 인터페이스 또는 금속 임플란트에서 조직의 변화와 신호 손실, 특히 단계 이동 및 신호 손실에 이어질 수 있습니다.

캘리포니아의

감염성 효력의 계산은 조직과 그들의 공간 배급의 자석 재산을 이해하는 포함합니다. 조직 사이 susceptibility 다름 (Δ)는 국부적으로 자석 분야 perturbations를 견적하기 위하여 사용될 수 있습니다. 기본적인 공식은:

ΔB = B0] * Δ]]

여기서 ΔB는 자기장 변이, ]B]0]]는 주요 자기장 강도, Δ♥]는 susceptibility 차이입니다. 더 복잡한 모델은 자기장에 대한 조직 기하학 및 방향을 통합하여 계산을 재조정합니다.

응용 및 완화 전략

MRI 프로토콜과 개선 보정 알고리즘을 설계하는 데 도움이되는 탁월한 취약점 효과. SWI(수량형 이미징)과 같은 기술로 인해 취약점 차이를 기반으로 대비를 향상시킵니다. 또한 소프트웨어 보정은 취약점 변이에 의해 발생되는 예측을 줄일 수 있으며 이미지 선명도를 개선합니다.

  • 의 사용 단계 이미징을 감지 할 수 있는 susceptibility 변형
  • 포스트 처리 보정 알고리즘의 적용
  • 특정 조직에 대한 최적화된 이미징 매개 변수
  • 멀티채널 코일과 같은 하드웨어 솔루션