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부식의 기본성 Mapping 이해

부식 잠재적 인 매핑은 전기 화학적 잠재력을 측정하는 데 포함 (half-cell 잠재력)는 구조의 강철 부식의 수준을 나타냅니다, 부식의 수동적인 또는 활성 상태에 통찰력을 제공. 이 방법은 그것의 비 파괴적 성격에 의해 특징이며, anodic 및 cathodic 위치를 식별하는 데 유용하지만, 그것은 종합 구조적 분석을위한 다른 기술과 보완해야합니다.

이 기술은 기본적인 전기화학 원리에서 지상에 놓입니다. 금속은, 표면의 맞은편에 전기 잠재력을 창조하는 전기화학 반응을 겪습니다. 강철을 강화하는 부식은 전기 화학 과정이고 강철의 행동은 그것의 반 세포 잠재력을 측정해서 성격을 일 수 있습니다. 더 중대한 잠재적인 부식이 일어나고 있는 위험은 더 높습니다. 체계적으로 안정되어 있는 참고 전극에 관계되는 이 잠재적인 다름을 측정해서, 기술공은 부식이 일어나는 경우에 가장 중대한 조건을 계시하는 상세한 지도를 창조할 수 있습니다.

부식 잠재적인 측정은 부식 잠재력을 기록하기 때문에, i.e. 설치 물자와 calomel, 는/실버 염화물 구리 구리 구리 황산염과 같은 물자에서 한 참고 전극의 잠재적인 다름. 이 측정은 전체 구조의 맞은편에 컴파일될 때 금속의 전기화학 국가의 스냅샷을, 부식 활동의 본을 계시합니다.

Electrochemical Potential 측정 뒤에 과학

이 제품은 금속의 부식에 의해 생성된 금속의 부식에 의해 생성된, 부식의 밑에, 그것의 부식의 밑에, 그것입니다. 그것은 금속의 부식에 의해 생성된 전기화학 반응을 포함하여, 부식의 변화에 있는, 부식의 밑에, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는, 부식의 변화에 있는 변화에 있는 변화에 있는 변화에 의해, 돕습니다.

이 동시 반응은 금속 표면의 전위적 차이를 만듭니다. 활동 부식 (대형 지구)를 겪는 지역은 일반적으로 수동 또는 음극성 지구에 비해 더 부정적인 잠재력을 전시합니다. 이러한 잠재적 차이를 측정함으로써, 부식 잠재적 인 매핑은 부식이 활발하게 발생하는 곳을 식별 할 수 있습니다, 부식 얼룩이 지기 또는 표면에 나타나는 균열과 같은 눈에 보이는 표시하기 전에.

부식 평가를 위해 자주 이용되는 3개의 모수는: 부식 잠재적인 Ecorr, 구체적인 저항력 ρ 및 극화 저항 Rp에서 산출된 부식 비율 Icorr. 실제적인 구조에서는, 3개의 부식 모수의 측정은 손상을 위한 높은 위험으로 지역의 ID를 허용합니다. 부식 잠재적인 mapping가 잠재적인 측정에 1 차적으로 집중하는 동안, 그것은 수시로 다른 전기화학 기술과 결합됩니다.

반셀 잠재적인 테스트: 콘크리트 구조물의 1차 방법

반 세포 잠재적 인 시험은 ASTM C876 – 15에서 표준화 된 유일한 부식 모니터링 기술입니다. 콘크리트에 Uncoated 강화 강철의 부식 잠재력을 위한 표준 시험 방법. 그것은 강화 콘크리트 구조에 있는 철근 내 부식의 확률을 결정하기 위하여 이용됩니다. 이 표준화한 접근은 전 세계 강화된 콘크리트 인프라에 있는 부식을 평가하기 위한 기업 벤치 마크가 되었습니다.

콘크리트 용 반 셀 잠재적 인 테스트는 콘크리트 구조의 강화 강철 내에서 부식의 결과로 영향을 미치는 표준 부식 모니터링 기술입니다. 이 비 파괴적 인 테스트는 콘크리트의 표면에 배치 된 철근 강철과 참조 전극 사이의 전기적 잠재적 차이를 측정하는 것이 포함됩니다. 이러한 잠재적 인 차이를 평가함으로써 부식의 위험에 처한 콘크리트 내에서 영역을 예측할 수 있습니다.

이 방법은 교량 갑판 검사, 주차 차고, 강화된 콘크리트 광속, girders 및 piers의 부식 감시를 위해 사용되었습니다. 이 신청의 맞은편에 그것의 광대한 채택은 다양한 구조상 상황에 있는 그것의 다양성 그리고 신뢰성을 보여줍니다.

참조 전극과 그들의 역할

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반셀 잠재적 인 독서를 해석

ASTM C876는 이 측정이 착수될 수 있는 방법의 가이드라인을 제공하고, 측정한 잠재적인 가치와 부식 확률 사이 관계. 결과는 qualitative이고 구리 황산염 전극 (CSE)에 근거를 둡니다. 테이블 1는 측정한 잠재적인 범위가 3개의 종류에서 분류되는 ASTM에 의해 제안된 일반적인 해석 가이드라인을 보여줍니다; 90% 기회 보다는 더 적은, 부식의 10% 기회 또는 불확실한 기회 보다는 더 많은 것.

반 세포 잠재적인 측정은 -350 mV (CSE 전극) 보다는 더 부정적인 때, 그 때 활동 부식이 90% 이상 있는 확률. 측정한 가치가 -200 mV 보다는 더 긍정적 때, 활동적인 부식의 기회는 10% 미만입니다. -200 mV와 -350 mV 사이 잠재적인 가치를 위해, 시험 결과를 해석하는 불확실한 있습니다. 이 중간 지역은 추가 조사 또는 보완적인 테스트 방법을 요구합니다 definitively 평가 부식 상태를 위한.

이 임계 값은 절대보다 유연하다는 것을 주목하는 것이 중요합니다. 측정 된 반 세포 부식 잠재력에 따라 활성 부식의 확률이 결정됩니다. 환경 요인, 콘크리트 특성 및 구조적 조건은 사이트 별 조건의 경험 해석과 고려사항이 필수적입니다.

부식 포렌탈 매핑을 위한 종합 단계별 절차

성공적인 부식 잠재적 인 매핑은 조심적인 계획, 적당한 장비, 체계적인 자료 수집 및 사려깊은 분석이 요구합니다. 뒤에 오는 단면도는 정확한 믿을 수 있는 결과를 지키기 위하여 과정의 각 단계 세부사항을 상세히 합니다.

사전 - 수리 계획 및 준비

이 시험은 시험의 가장 중요한 부분입니다. 시험은 시험의 가장 중요한 부분에서, 시험은 시험의 가장 중요한 부분입니다. 시험은 시험의 가장 중요한 부분에서, 시험은 시험의 가장 중요한 부분에서, 시험의 가장 중요한 부분에서, 시험의 가장 중요한 부분에서, 시험의 가장 중요한 부분입니다.

In general, a schematic grid w