Photonic crystal 구조는 가벼운의 흐름을 제어할 수 있는 굴절률에 있는 주기적인 변이를 가진 물자입니다. 이 구조를 짜맞춰서 정확한 기술을 요구하고, 그들의 특성은 적당한 기능을 지키기 위하여 근본적입니다. 이 가이드는 창조하고 photonic 결정을 분석하는 실제적인 방법의 개요를 제공합니다.

직물 기술

몇몇 방법은 광합성 결정 구조, 다른 신청 및 가늠자를 위해 각 적당한 직물에 이용됩니다. 일반적인 기술은 lithography, etching 및 각자 집합을 포함합니다.

Electron Beam Lithography (전선형)

이 방법은 nanoscale 본을 창조하기 위한 높은 정밀도를 제안합니다. 그것은 저항 입히는 기질에 본을 쓰기 위하여 집중된 electron 광속을 사용하여, 본을 이동하기 위하여 etching에 의해 뒤에 따릅니다.

Photolithography와 민감하는 이온 에칭

Photolithography는 UV 빛을 패턴 광합성 층으로 사용하고 원하는 구조를 형성하기 위해 개발되고 외설됩니다. 민감 이온 등 (RIE)는 고사도 비율 특징을 위해 anisotropic Etching을 제공합니다.

문자화 방법

광합성 크리스탈 구조의 품질을 고려하는 것은 광학 및 구조적 특성화 기술이 포함되어 있습니다. 이 방법은 주기성, 결함 수준 및 광학적 특성을 확인합니다.

스캔 전극 현미경 (SEM)

SEM은 표면 변형의 상세한 이미지, 특징 크기와 염색 결함의 검출을 허용.

광학적인 Spectroscopy

광경 검사는 광역 갭을 식별하고 광경 결정의 광학적인 행동을 확인하기 위해 전송 및 반사 분광을 측정합니다.

의논하기

광합성 크리스탈 구조의 효과적인 제작 및 특성은 정확한 기술과 철저한 분석을 포함합니다. 광학 및 전자 현미경 검사를 가진 진보된 lithography 방법을 결합하면 다양한 응용 분야에 적합한 고품질의 구조를 보장합니다.