통합 회로의 누설 현재는 장치가 꺼져 있을 때 조차 교류하는 쓸모 없는 전기 현재입니다. 이 현재는 증가된 전력 소비 및 열 발생에 지도할 수 있고, 전자 장치의 성과 그리고 신뢰성에 영향을 미치. 누설의 근원을 이해하고 완화 전략은 현대 회로 디자인을 위해 근본적입니다.

누설 현재의 근원

누설 현재는 반도체 장치 내의 각종 물리적 현상에서 주로 시작됩니다. 이들은 subthreshold 누설, 게이트 산화물 터널링 및 접합 누설을 포함합니다. 장치 차원 수축으로, 이 효력은 더 발음되고, 누설 통제를 점점 도전해 달라고 합니다.

누설 전류를 마이그레이션하기위한 기술

여러 전략은 통합 회로에서 누설 전류를 줄이기 위해 고용됩니다. 이들은 고성능 측정 기술을 구현하고 장치 형상을 최적화하는 고성능 감전 장치를 사용합니다. 재료 혁신 및 프로세스 개선도 누설 감소에 기여합니다.

설계 고려 사항

효과적인 누설 관리는 주의깊은 회로 디자인 및 과정 선택 포함합니다. 디자이너는 적당한 트랜지스터 유형 및 실행 힘 관리 기술을 선택해서 힘 효율성을 가진 수시로 균형 성과를 입니다. 가장 공구는 누설 행동과 가이드 디자인 결정을 예측할 것을 돕습니다.

  • 높은 강저 전압 트랜지스터를 사용
  • 힘 gating를 실행하십시오
  • Optimize 장치 차원
  • 멀티-스레치 CMOS 기술을 적용