Kiểm tra hạt từ (MPI) là phương pháp thử nghiệm không phá hủy được dùng để phát hiện các lỗi bề mặt và gần trong vật liệu phóng xạ. Khả năng thẩm định sai sót thông thường được xác định trong suốt MPI đảm bảo tính toàn vẹn và an toàn của các thành phần. Bài này đưa ra các vấn đề và giải pháp thường gặp trong thủ tục MPI.

Phát hiện lỗi chung bởi MPI

Trong suốt MPI, một số loại khuyết tật có thể được nhận diện, bao gồm các vết nứt, sự phù hợp, thiếu hợp hạch và sự kết hợp. Nhận ra những khuyết điểm này là quan trọng để có những quyết định chính xác và sửa chữa.

Kĩ thuật viên gặp khó khăn

Việc bắn súng có hiệu quả bao gồm việc kiểm tra các thông số, chuẩn bị bề mặt và thiết bị.

Những vấn đề và giải pháp thông thường

  • Dấu hiệu của vết bẩn trên mặt đất: Dọn sạch bề mặt hoàn toàn để loại bỏ đất, dầu hoặc sơn trước khi kiểm tra.
  • Trường nam châm yếu:) Kiểm tra thiết bị từ tính và đảm bảo vị trí cuộn dây đúng và cấp độ hiện tại.
  • Ứng dụng hạt mâu thuẫn:[FLT: 1] sử dụng loại hạt thích hợp và áp dụng đều để tăng tầm nhìn khiếm khuyết.
  • Giải thích các dấu hiệu: ) Thường xuyên các nhân viên huấn luyện để phân biệt giữa các khuyết điểm và cổ vật thật.

Những thực hành tốt nhất cho MPI chính xác

Cần phải chuẩn hóa thủ tục và cân nhắc thiết bị. Việc huấn luyện và kiểm soát chất lượng đều đặn giúp đảm bảo việc phát hiện khuyết tật trong suốt MPI.